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北方华创推出新一代12英寸芯片刻蚀设备NMC612H
近日,北方华创推出全新12英寸高端电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备NMC612H。该设备专为先进逻辑芯片和先进存储芯片的关键刻蚀工艺设计,成功突破了精准偏压控制、射频多态脉冲控制、超高速通信网络控制等多项核心技术。
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